第573章 光刻技术探讨
“杨总，你这话是真的假的？”
冯长宇祁同文谢军等急赤白脸的道：“要杨总你说的是真的，那这事我们不用回去商量了，我们现在就可以做主答应——不过到时候杨总你可别后悔！”
十几个单位，大几千号退休职工的养老……
这事放谁身上那都不是个小事。
但对于现在财大气粗，而且眼里除了光刻机什么都不想的杨明来说，那根本就不是个问题。
更何况在他看来，那些退休职工虽说现在技术过时了，老了不中用了……
但他们当年，那可也是为国家付出了无数青春和热血的，就跟村里的杨宗顺老爷子等烈属一样。
别说是只要自己敢挑这个担子，那么就肯定能拿到各单位的代管权，并对国内所有的光刻机以及相关的团队整合在一起进行技术攻关这好处。
就算是没有任何好处……
毕竟国家有难处难以做到面面俱到，那是国家的事。
自己既然有这个能力，那就该义不容辞的将这个担子给跳起来！
“杨总大气！”
“有杨总这话，我们这几年一直都压心口的这事，可总算是落地了！”
听到这话，在场一众兴奋不已，如祁同文谢军等更是感动的直抹眼泪，连连举杯向杨明敬酒。
“诸位客气，这都是我应该做的！”
“毕竟古语有用，不可让为众抱薪者冻毙于风雪，不能让英雄流血又流泪么？”
杨明从善如流，一一碰杯的同时也不忘忐忑询问，表示只托管某个单位，自己也自问不会出现什么意外……
但这一下就十几个单位，上头会不会答应，自己还真没把握。
“一下就托管这么多单位，上头顾虑肯定是有……”
说到此处，一众人等却又是话锋一转，纷纷将胸口拍的咚咚作响，表示只要有自己等人在。
上头没顾虑会答应，即便有顾虑，自己等人也同样有办法让上头答应！
毕竟上头总不能眼睁睁的看着这么大几千号全都曾经为国家建设流血流汗的有功之臣们活活饿死不是？
“有你们几位这话，那我可就放心了！”
得到保证，杨明长松口气，又陪着众人喝了几杯之后这才开口笑道：“在座诸位都是业内专家前辈，吃过的盐都比我吃过的米还多，按说我一外行绝对不该在光刻机相关方面对各位指指点点，不过诸位也知道，要我全盘托管了大家所在的单位，再加上投资，每年的开销肯定在三千万以上，这可不是什么小数目……
所以在有关光刻机，以及光刻机在未来的发展方向和技术难点上，我想听听大家有什么看法，可以吗？”
“杨总你客气了！”
“花了这么多钱，这不都是应该的么——更何况这又不是什么机密！”
众人纷纷点头，然后各自开始发表自己的看法。
对于绝大多数人来说，虽然对光刻二字可能听的耳朵都能起茧子，但到底何为光刻，其实怕没几个能真的说出个所以然来。
想要真正的理解光刻，还得从晶元芯片之类说起。
最初的电子产品，都是通过各种诸如二极管等通过电路板的联结来产生作用。所能达到的功能也相对单一。
但随着科技的发展，电子产品的功能也在逐渐增，出现了诸如电视啊电脑之类的东西。
虽说如电视电脑之类的东西远比最初的电子产品来的复杂，但所谓万变不离其宗。
也就是说，无论多么复杂的功能，其实都得靠最基本的电子元件组合，才能达成目的。
而越复杂的电子产品，所需要用到的电子元器件等等数量，也都在成倍数增加……
如果不能对这些最初的电子元器件进行技术优化或者整合，最终的结果就只有一个，那就是越复杂的电子产品，它的体积也就越大……
所谓晶元或者芯片，就是将原本要实现某个产品功能的无数元器件，通过技术集中到了一起的产品。
虽说将无数元器件的功能集中在一起，实实现了更小更轻，功能更多的目标……
但想要让它发挥作用，却依旧要靠电路来完成。
所谓光刻，就是在这或许指甲盖大，但融合了几十几百甚至几千个电子元件功能的模块中刻画电路，从而让其发挥作用的过程。
单个器件集成的电子元器件越多，能耗越小，最终形成的产品便能越小越轻便，也越能拥有更多的功能——而想要达到这样的目的，就得更尖端的光刻机。
毕竟只有纳米数越小的光刻机，才能在同等体积的芯片或者是晶元上堆叠更多链接电子元器件，并极大的降低能耗。（芯片和晶元中的线路不是平面的，而是靠堆叠来完成。）
光刻机一帮是由光源，均匀照明系统、投影物镜系统、机械及控制系统(包括工件台、掩膜台、硅片传输系统等构成。
按照张学东冯长宇祁同文等人的说法，国产光刻机，比如已经交付华芯进行使用的分步式光刻机，虽说对比国外最先进产品，在技术方面依旧有差距，不过这个差距并不是太大，更不存在代差……
毕竟大家都采用的都是同等理念，分步式投影。
唯一的差别，或许也就是光源了。
听到此处，从头到尾一直都没怎么说话的光学投影专家，长光所的龚建亮终于开口了。
他表示长光所在最近的研究中有一些心得，表示经过研究，如果能用放电汞灯辐射紫外光，应该有希望进一步的降低光源波长，将现在正在应用的高压放电汞灯的光源从极限的365纳米，成功降低到250纳米！
“这是真的吗？”
听到这话，无论是张学东任继宪还是冯长宇都兴奋不已，同时也有些悻悻，埋怨龚建亮怎么不早说……
毕竟近年虽然已经传出西方在光刻机方面的研究，其实已经早就突破了微米级，已经在向纳米级发展，但终究还没有实际产品出来。
要长光所能早点告诉大家这个成果，自己尽早将其进行在光刻机上应用，国产光刻机的技术指标那可就能和西方最先进光刻机的技术指标并驾齐驱了！
虽然只是暂时性的，但总算是追上过不是？
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